Фото: mos.ru
Компания-резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» разработала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин в своем Telegram-канале.
«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе – Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», — написал Собянин.
По словам мэра, отечественная установка отличается от зарубежных аналогов использованием твердотельного лазера вместо ртутной лампы, что обеспечивает большую мощность, энергоэффективность, долговечность и более узкий спектр излучения.
Сообщается, что на отечественный фотолитограф уже есть заказчик, и в настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров, которую планируется завершить в 2026 году.
Ранее Вести Московского региона сообщали, что робот «Светлана» помогла подмосковным льготникам почти 20 тысяч раз продлить рецепты.
Из-за схода снега в Новой Москве произошла трагедия. Вечером в садовом некоммерческом товариществе «Яблоко-1», расположенном…
Известный российский стилист Александр Рогов больше не работает на Первом канале. Он пояснил, что уже…
Жители Волгоградской области подверглись массированной атаке беспилотных летательных аппаратов. Украинские дроны нанесли удары по жилым…
Вход в столичное управление Роскомнадзора в четверг, 12 февраля, оказался заблокирован. Несколько человек подошли к…
Уже в конце рабочей недели в Москве резко изменится погода: осадки будут выпадать в виде…
В Екатеринбурге завершилось заседание присяжных по делу о заказных убийствах, фигурантами которого стали глава азербайджанской…