Фото: mos.ru
Компания-резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» разработала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин в своем Telegram-канале.
«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе – Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», — написал Собянин.
По словам мэра, отечественная установка отличается от зарубежных аналогов использованием твердотельного лазера вместо ртутной лампы, что обеспечивает большую мощность, энергоэффективность, долговечность и более узкий спектр излучения.
Сообщается, что на отечественный фотолитограф уже есть заказчик, и в настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров, которую планируется завершить в 2026 году.
Ранее Вести Московского региона сообщали, что робот «Светлана» помогла подмосковным льготникам почти 20 тысяч раз продлить рецепты.
В пятницу, 3 апреля, жители нескольких регионов России столкнулись с проблемами при оплате картами и…
Сразу два города в Московской области ввели полный запрет на работу сервисов проката электросамокатов. Речь…
В ночь на 3 апреля российские военные перехватили четыре летательных аппарата, которые направлялись в сторону…
В подмосковном Щелкове случилась авария с участием трех легковых автомобилей. Произошло это днем 2 апреля…
В Центральной России апрель начнется с тепла, но во второй половине месяца синоптики прогнозируют резкое…
Председатель Следственного комитета Александр Бастрыкин раскрыл детали убийства генерал-лейтенанта Фанила Сарварова. Взрывное устройство, которое сработало…