Фото: mos.ru
Компания-резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» разработала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин в своем Telegram-канале.
«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе – Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», — написал Собянин.
По словам мэра, отечественная установка отличается от зарубежных аналогов использованием твердотельного лазера вместо ртутной лампы, что обеспечивает большую мощность, энергоэффективность, долговечность и более узкий спектр излучения.
Сообщается, что на отечественный фотолитограф уже есть заказчик, и в настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров, которую планируется завершить в 2026 году.
Ранее Вести Московского региона сообщали, что робот «Светлана» помогла подмосковным льготникам почти 20 тысяч раз продлить рецепты.
Специальный представитель президента России Борис Титов подвел итоги первых шести месяцев безвизового режима с Китаем.…
С 18 по 22 мая местами в Московской области объявлен высокий четвертый класс пожарной опасности.…
Вечером 17 мая Москву и Подмосковье накрыл мощный ливень с грозой. В районах Коммунарка и…
Во время ночной атаки украинских беспилотников на Московскую область погиб гражданин Индии. Об этом сообщило…
В апреле ветеринарные специалисты Московской области изъяли из продажи около 172 килограммов мяса, которое не…
Сбор документов в ВУЗ или колледж – ответственный этап, который может стать стрессом для выпускника.…